使用目的 | ガラスの溶融とアニール |
温度範囲 | 溶融炉:最高1600℃,<br>アニール炉:最高1000℃,落下急冷対応 |
雰囲気 | Air |
炉内容積 | 100w×130d×150hmm |
発熱体 | 溶融炉:MoSi2発熱体,アニール炉:カンタル線 |
設計・制作 | 菅原 透 |
履歴 | 2009年完成(滋賀県大),2012年秋田大に移設 |
設置場所 | 現在は解体されていますが,組み立てれば使用可能です.使用を希望する方はご相談ください |
装置図面
上部のMoSi2溶融炉
下部のアニール炉
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試料の上下機構
ガラス試料は白金ルツボに入れて写真のように白金線で吊り下げます.二本の吊線に30V程度の電圧を通電させて溶断し,炉の真下に置いた冷却水入りのビーカーに落下急冷します.
MoSi2炉のコントローラー.トランス,PID制御器,サイリスタ,電流計,電圧計を組み合わせた自作品.ケースは廃棄物を再利用しました.
コントローラーの中身